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Urlaub in der Carmarque

von Mitglied 1 — Fri, 18 May 2012 08:03:nn G5T

Clos du Rh ne ist ein Familiencamping das sich auf einem außergewöhnlichen bewahrten Standort befindet Ein vollständiges Panorama der Camargue bietet sich Ihnen an Decken Sie die kleine Rhone unsere Strände feinen Sandes die camarguais traditionellen Lebensräume den Teich Launes mit seiner Fauna und ihrer Flora auf http www camping leclos fr 96 html Größere Kartenansicht 963 km 9 Stunden 43 Minuten Route Nürtingen Größere Kartenansicht
Kategorie: Freizeit-Tips Urlaub

Spektrum der Hamamatsu L1835 Water cooled Deuterium lamp with MgF2 window

von Mitglied 1 — Thu, 17 May 2012 11:07:nn G5T

high intensity VUV 150 Watt Klicken Sie auf das Bild um es zu vergrößern myLayersClass position absolute visibility hidden z index 1 Datenblatt 108 KB myLayersClass position absolute visibility hidden z index 1 Schlüsselspezifikationen Zeichnung Related Products Part Number L1835 Type Deuterium D2 Type Estimated 300hours Window fiberMaterial MgF2 Min 115nm Max 400nm ApertureDia Size 2 5mm Drift 1 177 hours Fluctuation 0 5 p p FilamentWarm Up 10Vdc FilamentWarm UpVariation 1 177 Vdc Min Filament Warm Up 1 2Adc Max Filament Warm Up 1 2Adc FilamentOperating 5Vdc Min Filament Operating Current 1Adc Power Supply C9935 Vacuum Flange E3444 Series http sales hamamatsu com de produkte electron tube division light sources deuterium lamps part l1835 php unter http sales hamamatsu com assets pdf parts L L1314 L1835 TLSO1012E04 pdf
Kategorie: Produkte UV Deuterium

webcams Wilhelma Stuttgart

von Mitglied 1 — Thu, 17 May 2012 10:41:nn G5T

den Maurischen Garten mit dem Magnolienhain http m wilhelma de de besuch webcam html http webcam wilhelma de webcam02 webcam02 jpg
Kategorie: Web Webcams

ebay Hamamatsu lamp im Ausland

von Mitglied 1 — Thu, 17 May 2012 10:18:nn G5T

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Kategorie: Produkte UV Deuterium

Hamamatsu Lichtquelle L10366

von Mitglied 1 — Thu, 17 May 2012 10:03:nn G5T

L10366 Vacuum UV light source unit 115 nm to 400 nm Part Number L10366 Type Vacuum UV light source unit 115 nm to 400 nm Arc Size 0 5 Min 115 Max 400 Output Fluctuation 0 05 Guaranteed Life 2000 h at 230 nm expected 500 h at 160 nm Cooling air cooling
Kategorie: Produkte UV Deuterium

Deuterium Lampen unter Ebay Elektronik

von Mitglied 1 — Thu, 17 May 2012 09:51:nn G5T

unter http www ebay de dsc i html LH TitleDesc 1 amp sacat 64627 amp nkw Deuterium amp odkw Deuterium amp osacat 64627 http www ebay de sch i html nkw Deuterium amp sacat 64627 amp odkw amp osacat 64627 6 St NEU OVP Deuteriumlampe D 813 T Deuteriumlamp 1 Gebot EUR 1 00 EUR 4 30 Versand Time left 2T 10Std 55Min 7 St Deuteriumlampe HAMAMATSU Deuterium L2D2 2 Gebote EUR 1 50 EUR 4 30 Versand Time left 3T 10Std 1Min 8 St NEU OVP Deuteriumlampe HERAEUS Deuterium DO 848 1 Gebot EUR 1 00 EUR 4 30 Versand Time left 3T 10Std 4Min 35 Stück verschiedene Deuteriumlampe n HERAEUS D2 Lampe 1 Gebot EUR 1 00 EUR 4 30 Versand Time left 3T 10Std 12Min
Kategorie: Produkte UV Deuterium

MgF2 Window Lampen unter Hamamatsu

von Mitglied 1 — Thu, 17 May 2012 09:44:nn G5T

zitat L11798 01 1000 MgF2 115 400 0 6 5 0E 03 L11798 1000 MgF2 115 400 0 6 5 0E 03 L7293 50 2000 MgF2 115 400 1 2 5 0 25 1 0 1 L7293 2000 MgF2 115 400 1 2 5 0 25 1 0 1 L7292 2000 MgF2 115 400 1 10 1 2 5 L1835 MgF2 115 400 2 5 0 5 10 1 5 Part Number Guaranteed Life Window fiber Material Min Max Aperture Dia Size Fluctuation Filament Warm Up Filament Warm Up Variation Filament Operating Filament Operating variation quelle http sales hamamatsu com de produkte electron tube division light sources deuterium lamps php Deuterium D2 lamps emit UV light the wavelength range depends on the lamp s glass material A key characteristic of Hamamatsu s D2 lamps is their excellent stability They show very small output variations from lamp to lamp and individual lamps have low fluctuation and drift values Such stability is due to the ceramic electrode structure which ensures lamp stability even when the ambient temperature fluctuates D2 lamps also have a long service life and high brightness and Hamamatsu continues to develop D2 lamps with even higher brightness Hamamatsu makes the following types of D2 lamps L2D2 long life S2D2 stable and small e g compact H2D2 high brightness X2D2 ultrahigh brightness Deuterium lamps are widely used in UV visible absorption spectroscopy atomic absorption spectroscopy HPLC environmental analysis capillary electrophoresis film thickness measurement and other applications zitat
Kategorie: Produkte UV Deuterium

Deuterium Lampen unter Ebay

von Mitglied 1 — Thu, 17 May 2012 09:40:nn G5T

zitat Deuterium Lampe HAMAMATSU D2 L613KH Sofort Kaufen EUR 190 00 EUR 6 00 Versand Deuterium Lampe 039634 POS 06 HANAU NEU Sofort Kaufen EUR 179 00 EUR 4 50 Versand Biotronic BT 3030 UV Detector f HPLC m Deuterium D2 Lam Sofort Kaufen EUR 399 00 EUR 7 50 Versand Deuteriumlampe Deuterium SPR 200 654T 9423 UV9 0002E Sofort Kaufen oder Preisvorschlag senden EUR 289 00 Kostenloser Versand zitat unter http www ebay de sch Business Industrie 12576 i html sac 1 amp from R40 amp nkw deuterium
Kategorie: Produkte UV Deuterium

H2D2 Deuterium Lampe von Hamamatsu

von Mitglied 1 — Thu, 17 May 2012 09:29:nn G5T

MgF2 oder Synthetic Silicea zitat H2D2 high brightness deuterium lamp six times higher than conventional deuterium lamp Compressed Air Cooling Please note that lamp life end is point when light output at 230 nm falls to 50 of its initial value or when output fluctuation exceeds 0 05 p p Part Number L11799 01 Type H2D2 Deuterium GuaranteedLife 1000 hours D2 Type H2D2hours Window fiberMaterial Synthetic Silica Min 160nm Max 400nm ApertureDia Size 0 6mm Drift 0 3 177 hours Fluctuation 5 0E 03 p p zitat unter http sales hamamatsu com de produkte electron tube division light sources deuterium lamps part l11799 01 php
Kategorie: Produkte UV Deuterium

Depatisnet Recherche deutsche Patente

von Mitglied 1 — Wed, 16 May 2012 04:09:nn G5T

unter Depatisnet kann man die deutschen Patentanträge durchsuchen http depatisnet dpma de DepatisNet depatisnet action einsteiger Patenliste unter Excimer Suche 1 AT000000354548E DE OPTISCHER WERKSTOFF AUS QUARZGLAS FÜR EXCIMER LASER UND EXCIMER LAMPE UND VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG Recherche AT000000354548E href http depatisnet dpma de DepatisNet depatisnet window 1 amp space main amp content familie amp action treffer amp fromResultList 1 amp docid AT000000354548E amp so asc amp sf vn amp firstdoc 1 amp famSearchFromHitlist 1 Suchen 2 AU002007280515A1 EN Method and apparatus for calculating a laser shot file for use in an excimer laser Recherche AU002007280515A1 href http depatisnet dpma de DepatisNet depatisnet window 1 amp space main amp content familie amp action treffer amp fromResultList 1 amp docid AU002007280515A1 amp so asc amp sf vn amp firstdoc 1 amp famSearchFromHitlist 1 Suchen 3 AU002007280514A1 EN Method and apparatus for calculating a laser shot file for use in a refractive excimer laser Recherche AU002007280514A1 href http depatisnet dpma de DepatisNet depatisnet window 1 amp space main amp content familie amp action treffer amp fromResultList 1 amp docid AU002007280514A1 amp so asc amp sf vn amp firstdoc 1 amp famSearchFromHitlist 1 Suchen 4 AU002003299765A1 EN EXCIMER UV FLUORESCENCE DETECTION Recherche AU002003299765A1 href http depatisnet dpma de DepatisNet depatisnet window 1 amp space main amp content familie amp action treffer amp fromResultList 1 amp docid AU002003299765A1 amp so asc amp sf vn amp firstdoc 1 amp famSearchFromHitlist 1 Suchen 5 AU002003288733A1 EN EXCIMER LASER UNIT AND RELATIVE CONTROL METHOD FOR PERFORMING CORNEA ABLATION TO REDUCE PRESBYOPIA Recherche AU002003288733A1 href http depatisnet dpma de DepatisNet depatisnet window 1 amp space main amp content familie amp action treffer amp fromResultList 1 amp docid AU002003288733A1 amp so asc amp sf vn amp firstdoc 1 amp famSearchFromHitlist 1 Suchen 6 AU002003223174A1 EN HIGH REPETITION RATE EXCIMER LASER SYSTEM Recherche AU002003223174A1 href http depatisnet dpma de DepatisNet depatisnet window 1 amp space main amp content familie amp action treffer amp fromResultList 1 amp docid AU002003223174A1 amp so asc amp sf vn amp firstdoc 1 amp famSearchFromHitlist 1 Suchen 7 AU002003213096A1 EN FLUIDIZED BED ACTIVATED BY EXCIMER PLASMA AND MATERIALS PRODUCED THEREFROM Recherche AU002003213096A1 href http depatisnet dpma de DepatisNet depatisnet window 1 amp space main amp content familie amp action treffer amp fromResultList 1 amp docid AU002003213096A1 amp so asc amp sf vn amp firstdoc 1 amp famSearchFromHitlist 1 Suchen 8 AU002002258594A1 EN Barium fluoride high repetition rate uv excimer laser Recherche AU002002258594A1 href http depatisnet dpma de DepatisNet depatisnet window 1 amp space main amp content familie amp action treffer amp fromResultList 1 amp docid AU002002258594A1 amp so asc amp sf vn amp firstdoc 1 amp famSearchFromHitlist 1 Suchen 9 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Kategorie: Erfindungen Patente

Umrechnung Dollar Euro

von Mitglied 1 — Wed, 16 May 2012 12:23:nn G5T

Währungstabelle am 16 Mai 2012 4000 Dollar 3138 Euro 3000 Dollar 2353 Euro Euro EUR EUR 8364 1 8364 5 8364 10 8364 50 8364 100 8364 250 8364 500 USD 1 27 6 36 12 72 63 61 127 22 318 05 636 09 USDollar USD USD 5 10 50 100 250 500 1000 EUR 8364 3 93 8364 7 86 8364 39 3 8364 78 61 8364 196 51 8364 393 03 8364 786 05 unter http de finance yahoo com waehrungen waehrungsrechner from EUR to USD amt 1
Kategorie: Berechnungen

Preis Xeradex Lampe in Deutschland Lampe plus Vorschaltgerät 8700 Euro

von Mitglied 1 — Wed, 16 May 2012 12:16:nn G5T

Pos Artikelnummer LW Menge E Preis PE G Preis S Ihre Anfrage vom 15 05 2012 Zahlungsbedingungen Vorkasse Lieferzeit ca 4 6 Wochen nach Zahlungseingang 1 191007 1 Stck 5 995 00 5 995 00 1 OS XERADEX 20W 216 40MM 120MM SB S46 85 XENON Excimer Lampe 2 weee 1 Stck 0 13 0 13 1 ENTSORGUNGSGEBÜHR für Entladungsund LED Lampen gemäß ElektroG gemäß aktueller Gesetzgebung 3 939476 1 Stck 1 325 00 1 325 00 1 OSRAM XERADEX EVG 28W 110 240V 50 60Hz XERADEX Vorschaltgerät Netto
Kategorie: Produkte UV Lampen

ebay XERADEX 20 excimer lamp bulb

von Mitglied 1 — Wed, 16 May 2012 12:12:nn G5T

Manufacturer OSRAM Model XERADEX 20 excimer lamp bulb Item Details Specifications Product Name XERADEX 20 Electrical Input Power 20 W VUV Radiation Power 8 W Lamp Length 235 mm 9 6 in Bulb Diameter 40 mm 1 5 in Bulb Length 120 mm 4 7 in Base DN 50 KF fl ange Irradiance 50 mW cm2 Order Code 20W L40 120 SB SX46 KF50 Overall Condition New Cosmetic Condition New Original Packaging Functional Condition Notes Includes only what is shown in the images Does not include any additional parts cables or documentation auf http www ebay com itm ws eBayISAPI dll ViewItem amp item 200749571345
Kategorie: Produkte UV Lampen

Chalets direkt am Strand vom Ijsselmeer

von Mitglied 1 — Wed, 16 May 2012 11:30:nn G5T

zitat Es sind sieben Chalets zu vermieten zechs 6 Personen und ein 4 Personen Chalets Vier 6 Personen Chalets sind genau gleich die alle haben drei Schlafzimmer zei mit Etagenbett und stehen zusammen mit einem 4 Personen Chalet auf Platz C109 am Wasser und nah am Makkumerstrand Es gibt auch Fischstege bei diesen Chalets Die Chalets auf Platz T19 und E191 haben zwei Schlafzimmer und eine große Schlaafcouch im Wohnzimmer Campingplatz De Holle Poarte hat u a einen großen Strand mit einer Promenade am IJsselmeer Die Chalets stehen nah am Strand ideal zum z B Windsurfen Das Wasser ist knietief Es gibt zwei Surfschulen eine Deutsch sprachige am Strand und es gibt u a ein Surf und Kite Geschäft Kiten ist hier im Hauptsaison nicht erlaubt Bei Kornwerderzand ist ein Strand wo mann im Sommer Kitesurfen kann Es sind verschiedene Restaurants am Camping und auch Terrasse Es gibt eine Wäscherei und auch einen Supermarkt der 7 Tage in die Woche geöffnet ist Im Saison gibt es eines Erholungsteam es ist viel zu erleben auf diesem Campingplatz aber die Chalets bieten auch viel Privacy Die Chalets auf Platz C109 stehen auf einer Halbinsel auch Chalet T19 ist ruhig gelegen dieses Chalet hat einen großen Garten mit Sandkasten der ab zu schließen ist Die Chalets für 6 Personen sind 12 Meter lang und 4 Meter breit der Chalet mit 4 Bette ist 10 Meter lang Alle chalets haben große Terrasse mit Möbeln und einen großen Sonnenschirm Chalet E191 steht nah am Strand und hat eine große eingezäunte Terrasse ein Schuppen Sankasten und ein Schutzdach ideal für Windsurfer zitat unter http www sotterum nl Deutsch d chalets htm Sotterum Chaletvermietung auf eine großere Karte zeigen Camping Sotterum Sotterumerdijk 11 NL 8753 JA Cornwerd Tel 0031 6 20747747 Fax 0031 515 233211 E mail info sotterum nl Rabobank Bolsward BIC RABONL2U IBAN NL08RABO0308740920 Grafschafter Volksbank eG Nordhorn 1090046200 BLZ 28069956 Verfügbarkeit der Chalets http www sotterum nl beschikbaar chalets htm Month Monat Week Week Woche Dag Day Tag Chalet T19 1 6 p Chalet E191 1 6 p Chalet C109A 1 6 p Chalet C109B 1 6 p Chalet C109C 1 6 p Chalet C109D 1 6 p Chalet C109E August 2012 34 6p 8364 420 4p 8364 400 18 de 19 Jonge 20 21 22 23 24 35 6p 8364 320 4p 8364 300 25 Madjar van der van 26 Meer Twuijver 27 28 29 30 31
Kategorie: Freizeit-Tips Urlaub

Ferienhaus am Ijsselmeer

von Mitglied 1 — Wed, 16 May 2012 11:26:nn G5T

Ferienhaus in den Niederlanden Holland von privat zu vermieten Das Haus liegt in unmittelbarer Nähe zum IJsselmeer Beach Resort Makkum Der Garten des Ferienhauses ist direkt am Wasser Kanal Zum Sandstrand des IJsselmeers sind es nur wenige Minuten zu gehen Die ruhige Lage am Rand eines Naturschutzgebietes bürgt für einen stressfreien und erholsamen Aufenthalt Diverse Spielmöglichkeiten für Kinder sind im Park vorhanden Kinder und Seniorenermäßigung fast das ganze Jahr 24 08 31 08 F S S M D M D F 651 729 31 08 07 09 F S S M D M D F 525 603 384 462
Kategorie: Freizeit-Tips Urlaub

IJsselmeer Makkum Surfspot

von Mitglied 1 — Wed, 16 May 2012 11:16:nn G5T

zitat Das Wasser reicht hier knietief viele hundert Meter ins Ijsselmeer hinein Die kleinen Sandbänke direkt am Strand müssen aber erst überquert werden Danach gibt es keine weiteren Hindernisse Der Wind kommt meistens aus Nordwesten also leicht auflandig von links Der Untergrund ist sandig Für diejenigen die ohne Schuhe surfen möchten ist das hier auch kein Problem Kleine Wellen bilden sich erst ab 5 6 Bft Am Ende des Stehbereiches nehmen die Wellen etwas zu also auch Spass für kleine Wellenreiter Trotzdem ist der Anfängerbereich gut geschützt und die Profis dürfen dann weiter herausfahren zitat Größere Kartenansicht Quelle http www surfspot de surfspots europa niederlande makkum html Wetter
Kategorie: Freizeit-Tips Windsurfen

Patent Siemens 2003 Bestrahlung von Gas mit Elektronenstrahl

von Mitglied 1 — Wed, 16 May 2012 08:47:nn G5T

Siemens 2003 Verfahren zur Behandlung und oder Reformierung von gas förmigen Brennstoffen durch nichtthermische Plasmen d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t dass der gasför mige Brennstoff oder ein den gasförmigen Brennstoff enthal tendes Gemisch in einen Reaktor gebracht wird in dem durch Einstrahlung eines außerhalb des Reaktors generierten Elekt ronenstrahls Ionisations Anregungsund Dissoziationspro zesse bewirkt werden Quelle http www sumobrain com patents wipo Method device treating reforming gaseous WO2003055794A2 pdf METHOD AND DEVICE FOR TREATING AND OR REFORMING GASEOUS FUELS USE OF THE SAME IN A POWER PLANT AND CORRESPONDING POWER PLANT Inventors Hammer Thomas Zeckerner Hauptstrasse 5b Hemhofen 91334 DE Kappes Thomas Forststrasse 17 Erlangen 91056 DE Kieser Jörg Pautzfelder Strasse 19c Forchheim 91301 DE Application Number PCT DE2002 004642 Publication Date July 10 2003 Filing Date December 18 2002 Export Citation Click for automatic bibliography generation Assignee SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT Wittelsbacherplatz 2 München 80333 DE Hammer Thomas Zeckerner Hauptstrasse 5b Hemhofen 91334 DE Kappes Thomas Forststrasse 17 Erlangen 91056 DE Kieser Jörg Pautzfelder Strasse 19c Forchheim 91301 DE International Classes B01D53 32 B01J19 00 B01J19 08 C01B3 34 IPC1 7 C01B3 00 Ads by Google MR UV Lampen UV Lampen Xenon LED Messgeräte Measuring instruments UV lamps www mr uv de Attorney Agent or Firm SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT Postfach 22 16 34 München 80506 DE Download PDF View Download PDF PDF Help Claims Patentansprüche 1 Verfahren zur Behandlung und oder Reformierung von gas förmigen Brennstoffen durch nichtthermische Plasmen d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t dass der gasför mige Brennstoff oder ein den gasförmigen Brennstoff enthal tendes Gemisch in einen Reaktor gebracht wird in dem durch Einstrahlung eines außerhalb des Reaktors generierten Elekt ronenstrahls Ionisations Anregungsund Dissoziationspro zesse bewirkt werden 2 Verfahren nach Anspruch 1 d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t dass zur Generierung des Elektronen strahls Elektronenenergien von wenigstens 100 keV verwendet werden 3 Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t dass die Behand lung und oder Reformierung der gasförmigen Brennstoffe ins besondere zur Anwendung bei Kraftwerken bei Temperaturen zwischen 25 C und 600 C und bei Drucken zwischen 0 1 bar und 60 bar erfolgt 4 Verfahren nach Anspruch 3 d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t dass Temperaturen zwischen 100 C und 400 C und Drucke zwischen 1 bar und 25 bar verwendet werden 5 Verfahren nach Anspruch 3 oder 4 d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t dass Temperatur T Druck p Reaktordimensionen d längs und quer zur Einstrahlrichtung des Elektronenstrahls sowie Beschleunigungsspannung U der Elektronen derart geregelt werden dass die Beziehung p d const 4 Un T erfüllt ist mit T Temperatur P Druck d Reaktordimensionen längs und quer zur Einstrahlrichtung des Elektronen strahls U Beschleunigungsspannung der Elektronen und n Exponentialfaktor mit 1 5 n 2 0 6 Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t dass nach der Elektronenstrahlbehandlung eine Abtrennung von Reaktionspro dukten erfolgt 7 Verfahren nach Anspruch 6 d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t dass die Elektronenstrahlbehandlung und die Abtrennung der Reaktionsprodukte mehrmals nacheinander angewandt wird wobei das jeweilige Restgas erneut bestrahlt und durch Abtrennung weiterbehandelt wird 8 Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche g e k e n n z e i c h n e t durch die Anwendung bei einem Kraftwerk zur Erzeugung von elektrischer Energie aus dem gas förmigen Brennstoff 9 Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 oder einem der Ansprüche 1 bis 7 mit einem Reaktorgefäß 30 dem erste Mittel 21 bis 26 zur Generierung und Ein kopplung eines von einem Elektronenquelle erzeugten Elektro nenstrahls 27 zugeordnet sind wobei die Elektronenstrahl quelle 21 bis 26 ein Austrittsfenster 31 hat das an das Reaktorgefäß 30 als Elektroneneintritt angekoppelt ist und wobei zweite Mittel zum Einbringen eines Eduktgases 28 44 54 67 64 64 in das Reaktorgefäß 30 und zum Ausbringen eines Produktgases 29 45 55 68 75 75 aus dem Reaktor gefäß 30 vorhanden sind 10 Vorrichtung nach Anspruch 9 d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t dass das Reaktorgefäß 30 als planarer Reaktor 41 51 ausgebildet ist 11 Vorrichtung nach Anspruch 9 d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t dass das Reaktorgefäß 30 als koaxialer Reaktor 41 51 ausgebildet ist 12 Vorrichtung nach Anspruch 9 d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t dass die Elektroneneinstrahlung radial erfolgt 13 Vorrichtung nach Anspruch 9 d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t dass die Elektroneneinstrahlung axial erfolgt 14 Vorrichtung nach Anspruch 9 d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t dass eine Elektronenstrahlanlage 61 mit OnlineRegelung 62 vorhanden ist 15 Vorrichtung nach Anspruch 9 d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t dass zusätzliche Mittel 72 72 zur Produktabtrennung des behandelten Brenngases vorhanden sind 16 Kraftwerk zur Erzeugung von elektrischer Energie aus ei nem gasförmigen Brennstoff mit zumindest einer Gasturbine die mit dem Brennstoff betrieben wird wobei das Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8 zur Anwendung gelangt d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t dass der Gas turbine 120 eine Vorrichtung 110 mit einem Reaktorgefäß 30 zur Behandlung von Brenngas durch nichtthermische Plas men zugeordnet ist die zumindest Mittel 21 bis 26 zur Ge nerierung und Einkopplung eines von einer Elektronenquelle erzeugten Elektronenstrahls 27 aufweist wobei die Elektro nenstrahlquelle 21 bis 26 ein Austrittsfenster 31 hat das als Elektroneneintritt an das Reaktorgefäß 30 angekop pelt ist 17 Kraftwerk nach Anspruch 16 d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t dass Mittel zum Einbringen des Brenngases in das Reaktorgefäß 30 und zum Einbringen des behandelten Brenngases in die Gasturbine 120 vorhanden sind 18 Kraftwerk nach Anspruch 16 d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t dass der Gasturbine 120 eine Dampfturbine 130 zur Bildung eines GuDKraftwerkes 100 nachgeschaltet ist Description Beschreibung Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung und oder Reformie rung von gasförmigen Brennstoffen sowie Anwendung bei einem Kraftwerk und zugehöriges Kraftwerk Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung und oder Reformierung von gasförmigen Brenn stoffen Daneben bezieht sich die Erfindung auch auf die An wendung des Verfahrens bei einem Kraftwerk und auf das zuge hörige Kraftwerk Wasserstoff als Energieträger verspricht eine effizientere Nutzung der vorhandenen fossilen Brennstoffe und eine Reduk tion der Emissionen von C02 und anderen Schadstoffen Die An reicherung von Brennstoffen mit Wasserstoff ermöglicht eine magerere Verbrennung in Verbrennungskraftanlagen die in der Teillast zu erhöhten Wirkungsgraden führt Gleichzeitig kön nen dabei die Kohlenmonoxid und die Stickoxidemissionen re duziert werden Wenn der Wasserstoff durch unvollständige Oxidation des Brennstoffes selbst erzeugt wird was als Re formierung bezeichnet wird können die dabei entstehenden als Wertstoffe in der chemischen Industrie nutzbaren Kohlenstoff verbindungen wie Methanol oder höhere Kohlenwasserstoffe teilweise abgetrennt werden Dadurch wird die spezifische CO2 Emission der Verbrennungskraftanlage weiter verringert da sich das H C Verhältnis des eingesetzten Brennstoffes da bei erhöht Mögliche Oxidationsmittel für die Reformierungs reaktion sind Wasser Sauerstoff oder Kohlendioxid Bisher bekannte Verfahren zur Erzeugung von Wasserstoff sind in erster Linie katalytische Verfahren Dabei werden die Reaktanden unter geeigneten äußeren Bedingungen wie Tempera tur Druck Flussgeschwindigkeit mit einer katalytisch akti ven Oberfläche in Kontakt gebracht Das bedeutendste Verfah ren zur Erzeugung von Wasserstoff ist die Dampfreformierung von Methan bzw Erdgas welche nach folgender Reaktion ab läuft CH4 H20 3 H2 CO 1 Die Reaktion ist stark endotherm und wird bei 800 900 C mit einem Nickel Katalysator durchgeführt Die hohen Temperaturen sind notwendig um das Gleichgewicht der Reaktion möglichst weit auf die Seite der Produkte zu verschieben Weitere Oxidationsmittel für Reformierungsreaktionen sind Sauerstoff und Kohlendioxid 2 CH4 02 4 Hs 2 CO 2 CH4 CO2 2 H2 2 CO 3 Bei katalytischen Reformierungsprozessen besteht die Gefahr dass sich fester Kohlenstoff bildet und sich dieser auf dem Katalysator ablagert und so die aktive Oberfläche blockiert Außerdem sind Katalysatoren empfindlich gegenüber Verunreini gungen im Gas wie z B Schwefelverbindungen und werden durch diese vergiftet Eine Alternative zur katalytischen Umwandlung bieten Verfah ren bei denen zur Aufheizung des Gases thermische Plasmen in Form von Lichtbögen verwendet werden Hierbei werden durch stromstarke Gasentladungen Temperaturen oberhalb 2000 C er reicht Diese hohen Gastemperaturen bewirken Umsatzraten und Reaktionszeiten die den Einsatz von Katalysatoren verzicht bar machen Lichtbogen Reaktoren haben den Vorteil eines sehr kompakten Aufbaus der Unempfindlichkeit gegenüber Verunreinigungen des Behandlungsgases und die Anwendbarkeit auf eine Vielzahl von Brennstoffen z B Erdgas Benzin oder Biomasse Nachteile sind der hohe Energiebedarf wie auch die starke Materialbean spruchung welche zu geringen Standzeiten der Elektroden führt Nichtthermische Plasmen dagegen zeichnen sich dadurch aus dass zwischen Elektronen mit einer sehr hohen mittleren Elektronenenergie von typischerweise 3 bis 8 eV 1 eV ent spräche im thermischen Gleichgewicht ca 11000 K elektroni scher Anregung und Ionisation auf der einen Seite und den noch durch eine Gastemperatur beschreibbaren Neutralteilchen auf der anderen Seite ein thermodynamisches Ungleichgewicht besteht Hier ist eine selektive und effiziente Einkopplung von Energie über Elektronenstoßreaktionen bei denen reaktive Radikale und Ionen gebildet werden ohne wesentliche Erhöhung der Gastemperatur möglich Nichtthermische Plasmen können sich bilden bei starker zeitlicher oder räumlicher Begrenzung der Energie Einkopplung und durch Kombination mit Gasströmun gen Geläufige Techniken zur Erzeugung nichtthermischer Plasmen bei Atmosphärendruck sind elektrische Gasentladungen wie die lektrisch behinderte Entladungen DBD Dielectric Barrier Discharge Corona Funken und gepulste Mikrowellenentla dungen In diesen Gasentladungen wird ein thermodynamisches Nichtgleichgewicht dadurch erreicht dass die Dauer der Ener gieeinkopplung zeitlich stark begrenzt wird In DBDs wird das durch eine dielektrische Barriere erreicht die in den Gas entladungsspalt zwischen Elektrode und Gegenelektrode einge fügt ist Bei Atmosphärendruck brennen DBDs in Form kleiner zeitlich und räumlich statistisch verteilter Mikroentladun gen die die Barriere lokal elektrisch aufladen Da sich der Spannungsabfall am Gasentladungsspalt als Differenz der äuße ren Spannung am Reaktor und des Spannungsabfalls an der Bar riere ergibt sinkt durch diese elektrische Aufladung die Spannung am Gasentladungsspalt sehr schnell unter den Wert der zur Aufrechterhaltung einer elektrischen Gasentladung er forderlich ist Deshalb können DBDs nur durch zeitlich ver änderliche Spannungen angeregt werden Eine einfache Form der elektrischen Anregung lässt sich durch Anlegen einer Wechselspannung mit einer Frequenz zwischen ty pisch 50 Hz und einigen 100 kHz erreichen Für eine zeitlich und räumlich gleichmäßige statistische Verteilung der Mikro entladungen und zur Erzielung ausreichend hoher mittlerer Elektronenenergien ist es jedoch erforderlich dass bei Raum temperatur das Produkt aus Gesamtdicke des Gasentladungsspal tes dG und Druck p einen Wert von typisch 3 mm bar nicht überschreitet Ein plasmachemisch effizienter Betrieb bei größeren Gasentla dungsspalten ist nur bei elektrischer Pulsanregung möglich bei der nicht mehr allein die elektrische Aufladung der die lektrischen Barriere sondern die zeitliche Begrenzung der Gasentladung durch die äußere elektrische Anregung für die Aufrechterhaltung eines thermischen Nichtgleichgewichtes ver antwortlich ist Mit zunehmender Dicke des Gasentladungsspal tes wird die DBD gepulsten Corona Entladungen PCD Pulsed Corona Discharge ähnlicher für deren Betrieb elektrische Hochspannungspulse mit sub us Dauer unerlässlich sind Elek trische Pulsnetzteile mit diesen Spezifikationen sind aufwen dige Sonderanfertigungen und enthalten teure Spezialbauteile Funkenentladungen weisen gegenüber DBDs und PCDs eine län gere elektrische Energieeinkopplung auf die bereits zu kräf tiger Gasaufheizung führt Industrielle Anwendungen sind da her sowohl wegen des Leistungsbedarfs als auch wegen Erosion der Funkenelektroden fraglich Die Erzeugung gepulster Mikro wellenentladungen bei Atmosphärendruck erfordert sowohl vom Design des Mikrowellenresonators als auch von der elektri schen Anregung her bisher einen so erheblichen Aufwand dass ein industrieller Einsatz noch nicht absehbar ist Dielektrisch behinderte Entladungen und Corona Entladungen wurden mehrfach für die Reformierung von Kohlenwasserstoffen zur Erzeugung von Wasserstoff vorgeschlagen CH 378 296 A DE 42 208 65 DE 197 579 36 A FR 2 757 499 A Beschrieben wird dort die Umsetzung eines Gemischs aus einem Brennstoff und einem Oxidationsmittel wie Wasserdampf Kohlendioxid oder Sauerstoff zu einem wasserstoffhaltigen Produktgas teilweise in Kombination mit einem Katalysator bzw einer Membran zur selektiven Abtrennung von Wasserstoff In einer Reihe weite rer Schriften wird die Erzeugung höherer Kohlenwasserstoffe in einem DBD Reaktor oder in einem Corona Entladungsreaktor beschrieben der geeignete katalytische Füllungen enthält WO 97 29833 A EP 1 038 942 A EP 1 038 855 A EP 1 038 856 A EP 1 074 535 A WO 98 32531 A Ein Vergleich der in diesen Schriften angegebenen Werte für den Energiebe darf zur Plasma Erzeugung mit den Brennwerten der Produkte zeigt jedoch dass die zugrundeliegenden Prozesse einen nied rigen Wirkungsgrad haben Ein besserer Wirkungsgrad wird mit sogenannten Gleitlichtbö gen Glide Arcs erzielt WO 98 30524 A deren Charakter be dingt durch Strömungseffekte zwischen thermischer und nicht thermischer Gasentladung liegt Wegen der hohen Gastemperatu ren sind hier jedoch ähnliche Probleme wie bei den thermi schen Plasmen zu erwarten Wie Untersuchungen zur Dampf Reformierung von Methan mittels DBD Reaktoren gezeigt haben wird ohne Kombination mit Kata lysatoren die Methankomponente des Eduktgases durch die Gas entladung bevorzugt aktiviert Hierdurch kommt es vornehmlich zur Bildung von Wasserstoff und höheren Kohlenwasserstoffen während oxidierte Komponenten wie z B CO nur in sehr gerin gen Mengen gebildet werden Auf diese Weise ist eine hohe Wasserstoffausbeute nicht zu erreichen Mit Sauerstoff als Oxidationsmittel konnte zwar eine höhere Selektivität für die Bildung von Wasserstoff erzielt werden der schlechte thermi sche Wirkungsgrad lässt dieses Verfahren aber wenig attraktiv erscheinen Problematisch bei den bekannten nichtthermischen Plasmaver fahren ist die Skalierbarkeit auf industrielle Anwendungen mit großem Massendurchsatz bei niedrigem Druckverlust am Re aktor Bei DBD Reaktoren ist die Begrenzung des Produktes aus Gasentladungsspalt und Druck auf Werte unter typisch 3 mm bar nicht mit einem industriellen Einsatz verträglich Für aus reichenden Massendurchsatz müsste eine Vielzahl einzelner Re aktormodule parallelgeschaltet werden Die mangelnde Verfüg barkeit kostengünstiger für den Dauerbetrieb geeigneter Hochspannungspulsnetzteile spricht gegen den Einsatz von DBD Reaktoren oder PCD Reaktoren mit großer Schlagweite Davon ausgehend ist es Aufgabe der Erfindung ein verbesser tes Verfahren zur Behandlung bzw Umwandlung von gasförmigen Brennstoffen dessen Verwendung und eine zugehörige Vorrich tung anzugeben Die Aufgabe ist erfindungsgemäß durch ein Verfahren mit den Maßnahmen des Patentanspruches 1 bzw durch eine Vorrichtung mit den Merkmalen des Patentanspruches 9 gelöst Eine vor teilhafte Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens für ein Kraftwerk ist Gegenstand des Patentanspruches 8 und ein zuge höriges Kraftwerk Gegenstand des Patentanspruches 16 Weiter bildungen des Verfahrens und der Vorrichtung speziell auch in Verbindung mit dem Kraftwerk sind Gegenstand der abhängi gen Patentansprüche Mit der Erfindung wird ein nichtthermisches Plasmaverfahren zur Reformierung von Kohlenwasserstoffen vorgeschlagen das gegenüber dem Stand der Technik einen höheren thermischen Wirkungsgrad eine höhere Selektivität für die Erzeugung von Wasserstoff und dabei gleichzeitig den Vorteil der einfachen Skalierbarkeit auf industrielle Nutzung aufweist Diese Vor teile werden dadurch erreicht dass für die Erzeugung des nichtthermischen Plasmas ein Elektronenstrahl eingesetzt wird In einer Vakuumröhre werden Elektronen aus einer geeig neten Quelle freigesetzt in einem elektrischen Feld be schleunigt und durch eine dünne Folie in den Gasraum einge strahlt in welchem dann durch Stoßprozesse der Elektronen mit den Gasmolekülen reaktive Radikale und Ionen erzeugt und so die Reformierungsreaktionen induziert werden Das Verfahren eignet sich insbesondere zur Umwandlung eines Gasgemisches bestehend aus einem oder mehreren Brenngasen z B Kohlenwasserstoffen Alkoholen Kohlenmonoxid und einem oder mehreren oxidierenden Gasen z B Sauerstoff Luft Was serdampf Kohlendioxid eventuell auch in Anwesenheit von I nertgasen z B Stickstoff mit dem Ziel der Erzeugung von Wasserstoff Erzeugung einer Mischung aus Kohlenmonoxid und Wasser stoff Anreicherung des Brenngases mit Wasserstoff Erhöhung des C H Verhältnisses im Brenngas Erzeugung von Alkoholen Aldehyden oder Ethern Erzeugung höherer Kohlenwasserstoffe Die Reformierung wird erfindungsgemäß bei Temperaturen zwi schen Umgebungstemperatur 25 C und 600 C durchgeführt bevor zugt jedoch zwischen 100 C und 400 C Das Elektronenstrahl verfahren arbeitet prinzipiell in einem weiten Druckbereich von einem leichten Unterdruck von z B 0 1 bar bis hin zu ei nem Überdruck von 60 bar Der bevorzugte Einsatzbereich liegt zwischen Atmosphärendruck und 25 bar Gegenüber Gasentladungsverfahren weist das Elektronenstrahl verfahren zur Reformierung gemäß der Erfindung folgende Be sonderheiten auf Die Erzeugung schneller Elektronen erfolgt außerhalb des Reaktorvolumens und ist damit von den Bedingun gen innerhalb des Reaktorvolumens unabhängig Die Elektronen treten mit einer sehr hohen Energie von typischerweise 150 keV in das Reaktorvolumen ein und geben ihre Energie nach und nach in Ionisations Anregungs und Dissoziationsprozessen ab Die bei solchen Prozessen auftretenden elektrischen Stöße erzeugen Sekundärelektronen mit Energien von bis mehreren 100 eV Deshalb tragen nicht nur die hochenergetischen Pri märelektronen sondern auch die Sekundärelektronen durch wei tere Ionisations und Dissoziationsstöße wesentlich zur Bil dung chemisch aktiver Radikale bei Die Wahrscheinlichkeit für das Stattfinden dieser Stoßprozesse die bei einer be stimmten Elektronenenergie proportional zu dem Stoßquer schnitt für diesen Prozess ist ist gegenüber der Anregung durch elektrische Gasentladungen um mehrere Größenordnungen erhöht Die Vibrationsanregung von Methan Wasser und Kohlen dioxid die bei Elektronenenergien unter 5 eV stattfindet und in nichtthermischen elektrischen Gasentladungen zur Reformie rung einen Verlustprozess darstellt ist demgegenüber um ei nen Faktor 2 reduziert Insgesamt wird also der Wirkungsgrad für Reformierungsreaktionen wesentlich verbessert Eine wei tere Verbesserung besteht darin dass die Wahrscheinlichkeit für die Dissoziation von Wasser und Kohlendioxid relativ zur Dissoziation von Methan erhöht wird Während bei 20 eV Methan mit 10 mal größerer Wahrscheinlichkeit als Wasser und mit 400 mal größerer Wahrscheinlichkeit als Kohlendioxid dissozi iert wird unterscheiden sich die Wahrscheinlichkeiten bei 100 eV nur noch um einen Faktor 1 7 bzw 9 Ein weiterer Vorteil des Elektronenstrahlverfahrens besteht in der einfachen Spannungsversorgung In einer Ausführungs form ist die Elektronenstrahlquelle als Triode mit einer be heizten Kathode als Elektronenemitter aufgebaut Regelbare DC Hochspannungsquellen hoher Leistung für die Beschleuni gungsspannung sind vom Stand der Technik bekannt ebenso die weiteren Versorgungsspannungen für Elektronenstrahlquellen Damit sind auch die Voraussetzungen für eine einfache kos tengünstige Hochskalierung mit dem Ziel des wirtschaftlichen Einsatzes gegeben Weitere Einzelheiten und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus nachfolgender Figurenbeschreibung anhand der Zeichnung in Verbindung mit den Patentansprüchen Es zeigen Figur 1 das Prinzip der Elektronenstrahlreformierung Figur 2 eine graphische Darstellung des Elektronenstoßquer schnittes für die Dissoziation verschiedener Substan zen in Abhängigkeit von der Elektronenenergie als Verteilungskurven Figur 3 eine Vorrichtung mit Elektronenstrahlquelle und pla narem Reaktor Figur 4 eine Schnittdarstellung eines koaxialen Reaktors mit radialer Einstrahlung Figur 5 einen koaxialen Reaktor mit axialer Einstrahlung Figur 6 als Blockschaltbild eine Elektronenstrahlquelle mit einer Online Regelung von Strom und Spannung Figur 7 eine schematische Darstellung der Elektronenstrahlbe handlung eines Brenngases in Kombination mit einer Produktabtrennung und Figur 8 ein Prinzipschaltbild eines Kraftwerkes mit kombi niertem Reformierungs GuD Prozess bei dem die anhand der vorangehenden Figuren 1 bzw 2 bis 7 beschriebe nen Verfahren bzw Vorrichtungen zum Einsatz kommen Die Figuren werden teilweise gemeinsam beschrieben In der Figur 1 ist das Prinzip der Elektronenstrahlreformie rung dargestellt Mit 1 1 sind hochenergetische Pri märelektronen vor und nach einer Reihe von Stößen bezeichnet Bezugszeichen 2 kennzeichnet ein Molekül der allgemeinen Struktur AB aus dem durch Elektronenstoß Teilchen 3 3 und 4 4 als ionisierte Molekülbruchstücke A einerseits und als neutrale Molekülbruchstücke B andererseits gebildet werden Mit 5 sind schließlich die bei den Wechselwirkungen entste henden Sekundärelektronen bezeichnet In Figur 2 ist auf der Abszisse die Elektronen Energie EE Electron Energy in Elektronenvolt eV und auf der Ordinate bezüglich der primären y Achse der Wirkungsquerschnitt CS Cross Section für Elektronenstoßdissoziation in 10 2 m2 aufgetragen Dargestellt sind einzelne Wirkungsquerschnitt 101 bis 103 wobei die Kurve 101 für Methan die Kurve 102 für Wasser die Kurve 103 für Kohlendioxid steht Mit der Kurve 104 ist bezüglich der sekundären y Achse die Elektro nenverteilung EEDF Electron Energy Distribution Function für eine mittlere Elektronenenergie von 6 eV und mit der Kurve 105 ist bezüglich der sekundären y Achse die Elektronenver teilung der Sekundärelektronen eines 100 keV Elektronen strahls in Wasserdampf dargestellt Das Verfahren wird bevorzugt im Durchfluss durchgeführt Das zu behandelnde Gas wird dabei am Austrittsfenster der Elek tronenstrahlapparatur vorbeigeführt Je nach Anwendung und gewünschtem Produkt kann dabei ein in Strömungsrichtung schmales Fenster mit hoher Intensität oder ein breites Fens ter mit entsprechend niedriger Strahlintensität zum Einsatz kommen Die Reaktorgeometrie kann je nach Anwendung planar gemäß Figur 3 koaxial mit radialer Einstrahlung der Elektro nen gemäß Figur 4 oder koaxial mit axialer Einstrahlung der Elektronen gemäß Figur 5 sein In Figur 3 ist eine mit Hochspannung betriebene Kathode 21 mit zugehöriger Heizung 22 und Steuergitter 23 vorhanden die in einem elektrisch isolierenden Kathodenrohr 24 angeordnet sind Mit 25 ist eine Ringanode bezeichnet Mit dieser Anord nung wird in einem metallischen Anodenrohr 26 ein Elektronen strahl 27 geführt und wirkt über ein Austrittsfenster 31 auf ein in einem Reaktorgefäß einströmendes Eduktgas 28 ein Das entstehende Produktgas ist mit 29 bezeichnet Bei prinzipieller gleicher Elektronenerzeugungsanordnung wie in Figur 1 ist in Figur 4 ein Reaktorgefäß 41 mit einem ring förmigen Eintrittsfenster 42 für Elektronen vorhanden über das der Elektronenstrahl 43 radial eintreten kann Mit 44 ist das Eduktgas und mit 45 das Produktgas bezeichnet In Figur 5 ist ein Reaktorgefäß 51 mit einem Fenster 52 der art ausgebildet dass der Elektronenstrahl 53 axial eintreten kann Ein Eduktgas 54 wird in dieser Variante beidseitig dem Reaktorgefäß 51 zugeführt und umgelenkt wobei ein so erzeug tes Produktgas 50 axial herausgeführt wird Die Skalierbarkeit des Verfahrens auf hohe Massendurchsätze und damit hohe Leistungen ist sowohl über die Erhöhung des Stromes als auch über die Erhöhung der Beschleunigungsspan nung möglich ohne dass sich dadurch Änderungen im Verfahren ergeben Der Strom kann durch Variation des Heizstromes einer Glühkathode und über Gitterspannungen variiert werden Dabei ist zu beachten dass die in der Folie deponierte Leistung die proportional zum Strom wächst durch Kühlung abgeführt werden kann Die Beschleunigungsspannung und damit die Energie der Elek tronen muss so groß sein dass diese die Folie die das Gas vom Vakuum trennt mit möglichst geringem Verlust durchdrin gen können Die Folie muss auf der einen Seite gasdicht sein und dem Druckunterschied standhalten auf der anderen Seite aber durchlässig für Elektronen sein und möglichst wenig von deren Energie absorbieren Gasdichte Titanfolien mit einer Dicke von bis zu 10 um hinunter sind Stand der Technik Die minimale Beschleunigungsspannung für kleine Folienabmessungen beträgt 60 kV Um die Verluste klein zu halten und den Elekt ronenstrahl mit einem größerem Strom betreiben zu können sind allerdings Beschleunigungsspannungen von über 100 kV vorzuziehen Bei den Anordnungen gemäß Figuren 3 bis 5 sind Reaktorgeomet rie Gasdichte und Beschleunigungsspannung aneinander anzu passen Für Prozesse mit variablem Druck und variabler Tempe ratur ist deshalb eine Regelung der Beschleunigungsspannung in der Art vorgesehen dass der Quotient p d cosnt 4 Ut konstant ist Hierin ist p der Druck d eine mit der Ein dringtiefe der Elektronen zusammenhängende Reaktordimension U die Beschleunigungsspannung der Elektronenstrahlquelle in kV 1 5 n 2 0 ein Exponent und T die Gastemperatur in K Weiterhin kann dabei auch eine Regelung in Abhängigkeit von Gaszusammensetzungen bevorzugt des Produktgases vorgenommen werden In der Figur 6 ist letzteres funktionell dargestellt Mit 60 ist der Reaktor bezeichnet dem die Elektronenstrahlquelle 61 mit Netzteil und zugehöriger Regelelektronik 62 zugeordnet ist Es sind ein Temperatursensor 63 ein Drucksensor 64 und ein Durchflussmesser 65 für ein einströmendes Eduktgas 67 vorhanden Weiterhin sind am Ende des Reaktors 60 Mittel 66 für eine Gasanalyse vorgesehen mit denen das entstandene Produktgas hinsichtlich seiner Komponenten untersucht werden kann In der Figur 7 sind zwei Elektronenstrahlreaktoren 71 und 71 hintereinander geschaltet In den Reaktor 71 strömt Eduktgas 74 ein und Produktgas 75 aus in den Reaktor 71 Eduktgas 74 ein und Produktgas 75 aus Zwischen die beiden Reaktoren 71 und 71 ist ein Abtrennreaktor 72 mit zugehörigen Betriebs mitteln 73 geschaltet Entsprechendes gilt für einen dem Re aktor 71 nachgeschalteten Abtrennreaktor 72 Mit den Ab trennreaktoren 72 72 ist eine selektive Abtrennung von Pro dukten 76 bzw 76 möglich Je nach Anwendung kann das Elektronenstrahlverfahren mit Trennverfahren und katalytischen Verfahren kombiniert werden was anhand von Figur 7 verdeutlicht wird Nachfolgend werden bevorzugte Anwendungen der Elektronen strahlbehandlung von Brennstoffen ergänzend beschrieben Bei der Kombination der Elektronenstrahlbehandlung mit Brenner fahren ohne Abtrennung kohlenstoffhaltiger Produkte ist das Ziel die Anreicherung des Brenngases mit molekularen Wasser stoff Deshalb wird erfindungsgemäß die Elektronenstrahlbe handlung im Gaseintritt der Brennkammer unter den Druck und Temperaturbedingungen durchgeführt die für das Brennverfah ren normalerweise vorgesehen sind Insbesondere bei GUD Kraftwerken findet die Reformierung bei erhöhter Temperatur von bis zu 400 C und erhöhtem Druck von bis zu 25 bar statt Hierbei kann in vorteilhafter Weise ausgenutzt werden dass die Wasserstoffanreicherung eines Brenngases durch Elektro nenstrahlen bei erhöhter Temperatur effizienter abläuft und dass die Temperaturerhöhung als Folge der adiabatischen Gas verdichtung automatisch erfolgt Figur 8 zeigt die Anwendung des beschriebenen Verfahrens bei einem Kraftwerk zur Erzeugung von elektrischer Energie aus einem gasförmigen Brennstoff Dabei kommt ein kombinierter Reformierungs GuD Prozess dessen wesentliche Merkmale als bekannt vorausgesetzt werden zum Einsatz In Figur 8 ist eine GuD Anlage GuD Gas und Dampf insge samt mit 100 bezeichnet Sie enthält insbesondere eine Gas turbine 120 einerseits und eine Dampfturbine 130 anderer seits die jeweils mit Generatoren 125 und 135 zur elektri schen Energieerzeugung gekoppelt sind Der Gasturbine 120 ist eine Einrichtung 110 zur Reformierung von Brennstoffen zugeordnet die im Einzelnen einen Reformer 111 eine Dampfversorgungseinheit 112 einen Separator 113 und eine Quelle für Erdgas 114 enthält Dem Separator 113 ist ein Brenner Combustor 115 nachgeschaltet dem außer dem Re formergas auch komprimierte Luft aus einer Verdichtereinheit 122 mit vorgeschalteter Luftversorgung 121 zugeführt wird Der Brenner 116 ist mit der Gasturbine 120 mit damit mecha nischgekoppeltem Generator 125 verbunden Der Reformer 111 wird elektrisch vom Generator 125 versorgt Die Abgase der Gasturbine 120 gelangen auf einen Dampferzeu ger 124 der den Dampf für die Dampfversorgungungseinheit 112 der Reformierungseinheit 110 einerseits und weiterhin Dampf für die Dampfturbine 130 liefert Der Dampfturbine 130 ist ein Kondensor 131 zur Kondensation von Wasser nachgeschaltet dessen Ausgang im Kreislauf auf die Wasserversorgung des Dampfgenerators 124 zurückgeführt wird Zusätzlich ist eine Einrichtung 132 zur Versorgung mit Wasser vorhanden Der Dampfturbine 130 ist der bereits erwähnte Generator 135 nach geschaltet Mit der Zuordnung der nunmehr erfindungsgemäß mit schnellen Elektronen arbeitenden Reformierungseinrichtung 110 für Brenngase ergibt sich ein Funktionsablauf mit verbessertem Wirkungsgrad Ein Teil des unter Druck zugeführten Erdgases wird dem Elektronenstrahlreformer 111 zugeführt und dort durch elektronenstrahlinduzierte Dampfreformierung in ein mit Wasserstoff und höheren Kohlenwasserstoffen angereichertes Brenngas konvertiert Der erforderliche Dampf wird wie vor stehend bereits im Einzelnen beschrieben dem Dampferzeuger 124 des Kraftwerkes entnommen Die höheren Kohlenwasserstoffe werden abgetrennt und das reformierte Brenngas der Brennkam mer 115 der Gasturbine 120 zugeführt Der Einsatz schneller Elektronen ist also vorteilhaft für den Reformierungsprozess In einer besonderen Ausführung erfolgt die Einstrahlung der Elektronen parallel zum Gasstrom direkt in die Brennkammer 115 hinein Dadurch ergibt sich nicht nur die Möglichkeit einer mageren Verbrennung aufgrund der Was serstoffanreicherung des Brenngases sondern auch eine Stabi lisierung der mageren Verbrennung durch die elektronenstrahl induzierte Radikalenerzeugung in der Brennkammer Wenn in Kombination mit Brennverfahren neben Wasserstoff ins besondere auch Alkohole Aldehyde Ether oder höhere Kohlen wasserstoffe erzeugt werden sollen kann vorteilhafterweise zur Reduzierung des Kohlenstoffgehaltes im Brenngas und damit zur Reduzierung der CO2 Emission z B eines GuD Kraftwerkes eine Abtrennung dieser Wertstoffe aus dem Gasstrom durch ei nes der folgenden Verfahren stattfinden a Membranabtrennung b Kondensation c Physisorption oder Chemisorption in einem geeigneten flüssigen oder festen Adsorber Die Elektronenstrahlbehandlung erfolgt dann vorzugsweise bei niedrigen Temperaturen und hohem Druck Vorteilhaft sind Tem peraturen unter 200 C Zur Steigerung der Selektivität des vorstehend im Einzelnen beschriebenen Verfahrens ist eine wiederholte Anwendung von Elektronenstrahlbehandlung in Kombination mit Trennverfahren möglich Nach jeder Elektronenstrahlbehandlung werden die ge wünschten Produkte durch eines der folgenden Verfahren aus dem Gasstrom entfernt a Membranabtrennung b Kondensation c Physisorption oder Chemisorption in einem geeigneten flüssigen oder festen Adsorber Insgesamt kann durch derartige Maßnahmen eine wirksame Ver besserung der Brenngasaufbereitung für industrielle Anwendun gen erzielt werden Insbesondere bei GuD Kraftwerken kann der dort eingesetzte Brennstoff in vorteilhafter Weise aufberei tet werden
Kategorie: Erfindungen Patente

ebay Excimer Laser KrF 192 nm

von Mitglied 1 — Wed, 16 May 2012 08:32:nn G5T

GAM Laser EX10 Excimer Laser System Reduced 3 12 8226 Pulse Length ns 11 15 8226 Beam Size mm 8 X 3 4 8226 Divergence mRad Full Angle 1 X 2 8226 Stability 2 Standard Deviation 8226 Wavelength 193 nm 8226 20 millijoules 8226 300 Hz 8226 Actual Net Weight 92 LBS http www ebay de itm GAM Laser EX10 Excimer Laser System Reduced 3 12 370601496157 pt LH DefaultDomain 0 amp hash item5649920e5d
Kategorie: Produkte Excimer

Gebrauchter Excimer Laser

von Mitglied 1 — Wed, 16 May 2012 08:23:nn G5T

Questek 2640 excimer laser w gas tested labda physics diverse Gase können angeschlossen werden Krypton ist dabei zitat This Questek 2640 excimer laser is complete with Spectra Gases high purity Flourine premix 320 CF and research grade Krypton 1000 liters The laser was tested in that it pumps down and fills when commanded and a bright flash of plasma is seen when it fires with a high pressure fill of inert gas only I didn t want to fool with the Flourine spec ed for up to 500 mj output power and up to 200 hz rep rate depending on gas fill Can be used with Argon F Krypton F or Xenon Cl A stainless steel pancake regulator is provided for the halogen gas and a standard high purity regulator for the Kr Estimated shipping weight is 1000 lbs zitat unter ebay http www ebay de itm Questek 2640 excimer laser w gas tested labda physics 250861465292 pt LH DefaultDomain 0 amp hash item3a68822ecc
Kategorie: Produkte Excimer

Gebrauchte Excimer Laser

von Mitglied 1 — Wed, 16 May 2012 08:13:nn G5T

unter Ebay in USA zitat This lot includes four Summit Technology Excimer Laser Chassis each with a Laser Controls Electronics Modules as shown One Lambda EMI a l e Systems 500A 14kV POS PFC 5V LH High Voltage Power Supply 14kV 500W is also included as shown These items looks to be in good decent condition showing some signs of wear A couple of the laser chassis are missing some of the lenses on the front and back please see photos above for detail The electronics modules all power up and their fans come on The Lambda power supply also powers up and its fan also comes on but I had to hook a power cord up to it with some alligator clips to power it up It did not power up while connected to the laser electronics assembly when just the electronics module was plugged in However I lack the knowledge and equipment to formally test these items and they are being sold as is Approximate overall unpacked dimensions 17 H x 44 W x 22 L zitat http www ebay de itm C86191 Lot 4 Summit Technology Excimer Lasers w 1 Lambda 14kV HV Power Supply 390389796707 pt LH DefaultDomain 0 amp hash item5ae50b8f63
Kategorie: Produkte Excimer

Seed Capital

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 04:58:nn G5T

begriffserklärung unter Gründerszene zitat Als Seed Finanzierung deutsch Samen oder auch Early Stage Financing deutsch Frühphasenfinanzierung wird eine Finanzspritze in ein junges Unternehmen bezeichnet welche ihm auf die Beine helfen soll Dazu werden in der Regel 100 000 bis 500 000 Euro benötigt zitat http www gruenderszene de lexikon begriffe seed finanzierung
Kategorie: Notizen Investoren

Businessplan unter Gründerszene

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 04:52:nn G5T

Begriffserklärung des Businessplan mit der Einleitung zitat Der Business Plan ist eine schriftliche Ausformulierung der eigenen Geschäftsidee der dazu dienen soll das eigene wirtschaftliche Vorhaben zu strukturieren und Investoren mit genauen Informationen zu überzeugen zitat unter http www gruenderszene de lexikon begriffe businessplan dabei werden auch die Bücher empfohlen http www amazon de exec obidos ASIN 3832309896
Kategorie: Notizen Investoren

HackFwe

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 04:42:nn G5T

unter der Adresse http hackfwd com ist die Investment Firma von Xing Lars Hinrichs doch die Seite zeigt dass man zunächst nur um die Überbrückung des ersten Jahres geht und dann sieht man weiter Dabei wird aber gleich mal 30 abgezogen You re Still The Boss You get to keep 70 equity You give 3 to your advisors We take 27 die top4 alles Websites und Apps http hackfwd com companies naja wer es braucht der ist sicher schnell dabei
Kategorie: Notizen Investoren

Kritisches zu HackFwd

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 04:36:nn G5T

unter Startwerk ch steht eine Zusammenfassung zu Hackfwd und einige Contras und Pros Referenz http startwerk ch 2010 06 16 pro und contra der preseed starthilfe ist hackfwd ein schlechter deal zitat Der Dienst hat seinen Preis 70 Prozent der Firma behalten der einzelne Gründer oder das Gründerteam für ein Jahr Gehalt Zum Vergleich Pre Seed Programme wie Y Combinator Seedcamp oder Techstars bleiben unter zehn Prozent in ihren Beteiligungen wobei sie aber auch weniger Geld einbringen Das bedeutet dass die Gründer bei HackFwd bereits vor einer ersten Finanzierungsrunde einen knappen Drittel ihres Unternehmens abgeben was die Verwässerung des Eigenkapitals später deutlich erhöht Weitere Finanzierung wird ausserdem komplett von der Einschätzung der Leute bei HackFwd abhängen Kein Investor dürfte sich beteiligen ohne vorher bei HackFwd durchzuklingeln und zu fragen ob man dort weiteres Kapital auflegen würde zitat
Kategorie: Notizen Investoren

Michigan Pre Seed Capital Fund

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 04:24:nn G5T

zitat Die Michigan Gründungsvorbereitung Capital Fund unterstützt Hightech Start up Unternehmen wie sie in der Nähe von Rentabilität durch Zugriff auf Frühphasen Investitionen oder Mikrokredite Entwicklung des Unternehmens zu beschleunigen Unterstützt von einem Konsortium von Michigan SmartZones und die MEDC und von der Michigan strategischen Fonds finanziert wird dieses Kapital erweitern die persönliche Investitionen der Unternehmer während der kritischen pre seed Phase bei am oder in der Nähe von Kommerzialisierung zitat im Detail Anwendungsinformation für Pre Seed Investitionen Förderfähige Unternehmen müssen hinter der Konzeptentwicklung und Analysephase und haben bestimmte Meilensteine zur Erreichung Kommerzialisierung identifiziert und für entsprechende Investitionen Partner des Fonds Gründungsvorbereitung akzeptabel Diese Anforderungen u Vermietung Schlüsselverwaltung oder spezialisierte Berater rechtlichen Überprüfung Vertrag Produktionsvereinbarungen Ausführen von marketing Strategien und Umsatz Pläne etc In diesem Stadium berücksichtigen der Gründungsvorbereitung Fonds Finanzierung von 50 000 bis 250 000 pro Unternehmen neben ihren Investment Partner die eine mindestens 1 1 Entsprechung zur Verfügung stellt unter http www annarborusa org business accelerator funding incentives pre seed fund
Kategorie: Notizen Investoren

HackFwd Pre Seed Investment

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 04:13:nn G5T

unter dem Portal Gründerszene findet man ein Artikel zu dem Xing Gründer Lars Hinrichs der ein neues Projekt gestartet hat zitat Namen HackFwd www hackfwd com und ist eine Investoren Firma die noch vor der Seed Stage Geld investiert neben ihrer Expertise auch noch das Folgende anbietet Funding For 1 Year Hack Fwd investiert für ein Jahr in junge Unternehmungen wobei sich ungefähr am momentanen Jahreseinkommen der Personen orientiert wird You re Still The Boss Gründer behalten bei HackFwd 70 Prozent ihrer Anteile Drei Prozent gehen an die Advisor des Hamburger Unternehmens 27 Prozent an HackFwd selbst Complete Focus Der rechtliche und administrative Aufwand wird den Gründern abgenommen und durch den HackFwd Apparat erledigt sodass sich auf Gründerseite vollständig auf das Produkt konzentriert werden kann zitat http www gruenderszene de news lars hinrichs neues projekt ist hackfwd ein pre seed vc
Kategorie: Notizen Investoren

Studie Eximiter Lamps

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 03:45:nn G5T

The excimer formation process is completed within some ns and the excimer radiation decays in about 100 ns As a consequence excimer lamps can be switched on and off at extremely fast rates A lamp driven at a fundamental frequency of 100 kHz for example emits bursts of short light pulses at a repetition rate of 200 kHz Excimer lamps need no warmup time and can be operated even at cryogenic temperatures Another important advantage is the flexibility of the sandwich like electrdde configuration which can be formed to any desired shape Excimer lamps found a number of interesting novel applications and within a short period of time became commercially available in Germany in Japan and in the United States Referenz http hal inria fr docs 00 25 55 61 PDF ajp jp4199707C405 pdf
Kategorie: Notizen UV

Studie Zersetzung Methanol durch UV

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 02:49:nn G5T

unter Springer http www springerlink com content j77j8531lx018151 zitat A methanol actinometer is used for measuring the intensity of vacuum UV radiation of a Xe 2 excilamp The absorbed radiation dose is determined by measuring the concentration of formaldehyde which is the decay product of methanol illuminated by UV radiation with the use of amperometric titration zitat
Kategorie: Notizen UV

Studie Photodegradation of nitrobenzene using 172 nm excimer UV lamp

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 02:33:nn G5T

Untersucheung von UV Einwirkung plus Einbindung von H2O2 Peroxid zitat Photodegradation von Nitrobenzol NB mit eine Excimer UV Lampe bei einer Wellenlänge von 172 nm wird untersucht Experimentelle Ergebnisse zeigen dass hohe Konzentration Nitrobenzol kann effizient mit Bestrahlung durch Excimer UV Lampe abgebaut werden und bestätigen dass Abbau von Nitrobenzol effizienter durch UV H 2 O 2 Kombination als UV nur Bei der Verwendung von UV nur fand 60 min Behandlung ausreichen um den größten Teil der NB Lösung mit einer Konzentration von weniger als 4 mM zu beeinträchtigen Bei der mit der Kombination von UV H 2 O 2 mit einer H 2 O 2 Konzentration von 7 1 molaren Verhältnis zu NB 4 07 mM NB Lösung bis 0 41 mM drastisch zurückgegangen nachdem Behandlung für nur 20 min Fortgeschrittene Abbauprodukte werden durch die Analyse der Abbauprodukte mit GC HRMS und Verschlechterung der möglichen Wege von Nitrobenzol identifiziert werden vorgeschlagen zitat unter http www ncbi nlm nih gov pubmed 16325336
Kategorie: Notizen UV

TU Darmstadt Übersicht der UV Lampen

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 02:19:nn G5T

von der TU Darmstadt ist ein Dokument im Internet das eine Aufstellung aller UV Lampen enthält Übersicht der UV Lampen und ihre Einsatzgebiete Darmstadt 15 Oktober 2009 Alex Voronov auf Seite 6 Dissociation of Organic Bonds by UV Light auf Seite 17 Low Pressure Lamp hat nur einen 10 Anteil im Deep UV Bereich auf Seite 24 um CH zu knacken benötigt man 300 nm ebenso für O2 240nm C H 293 nm C O 339 nm C O 162 nm Seite 25 Tabelle der Bindungen vs Wellenlängen http www idd tu darmstadt de media fachgebiet idd vddseminare archiv vdd seminar 09 10 15 vortrag voronov pdf
Kategorie: Notizen UV

Excimer Laborreaktor

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 12:40:nn G5T

einen Excimer Labor Reaktor findet man unter Eximer Lab Reactor EN pdf pdf 1 35 MB Excimer Laboratory Reactor Systems exhibit immersion lamp systems that are specially designed for the use of these light sources Their operation at high voltage and frequency requires different and more stringent security conditions that are leading to a larger lamp head in comparison to conventional arcs Specific characteristics Quasi monochromatic irradiation Usually up to 120 W electrical power Optical path 2cm Generally adapted for liquid phase photolyses Optimum specificity of the electronic excitation Efficient for photolyses sensitized and photochemicaly initiated reactions Sources of irradiation VUV UV Efficient thermoregulation possible High variability of the electrical lamp power Relative moderate incident photon densities Advantageous applications Recommended for high value adding preparative tasks product analyses kinetic investigations and quantum yield determinations as well as for chemical process development Photolyses and homogeneous sensitized and photochemicaly initiated reactions Excimer Laboratory Reactor 40 mit folgenden Leistungsdaten Technical data Lamp type ELR 222 150 LR 222nm ELR 308 150 LR 308nm Lamp power 120 Watt Doping optional n a Total immersion length n a Immersion length center of concentration of rays n a Effective arc length electrode gap 140 mm Average lamp lifetime approx 2 000 hours Lamp lifetime warranty 1 000 hours 30 intensity drop down in the UVC range 222nm respectively 30 intensity drop down in the UVB range 308nm Working volume 750 ml with inserted cooling tube Connections 1 x screw joint 1 x NS 29 32 2 x GL 18 Pump flow rate approx 1000 ml min at 2000 rpm Material of immersion tube n a Material of cooling tube Quartz glass Connection cooling water circuit Hose olives 216 10 Power supply HFEVG 12 Mains voltage Frequency 230 V 50 Hz Pre fuse max 16 A
Kategorie: Produkte UV Lampen

Planon Module

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 12:28:nn G5T

Osram bietet ein flaches Lichtmodul an das auf Basis von Xenon UV erzeugt welches wiederum in sichtbares Licht umgewandelt wird das Produkt wird beschrieben unter unter www osram ch osram ch DE PLANON osram planon de ppt Funktionsprinzip der Planon Module PLANON 174 erzeugt Licht durch eine gepulste dielektrisch behinderte Entladung Eine geeignete Spannung wird von außen an das Elektrodensystem der Lampe angelegt Hierdurch werden Xenon Atome im Gasraum angeregt und die Bildung von angeregten Xe2 Molekülen ermöglicht UV Strahlung wird durch Leuchtstoffe in sichtbares Licht umgewandelt Kleine an den Kathodenbahnen angebrachte Vorsprünge definieren den Ausgangspunkt der Entladung Der Entladungskanal weitet sich auf der gegenüberliegenden Elektrode endend zu einer dreieckigen leicht gekrümmten Form auf Durch das Bedecken der gesamten Lampenfläche mit diesen dreieckigen Entladungsfilamenten wird die hervorragende homogene Ausleuchtung der PLANON 174 ermöglicht
Kategorie: Produkte UV Lampen

Heraeus 172 120 ZHV Compact Excimer Lamp Types

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 12:08:nn G5T

Lamp Type Part number Electrical input Lamp length Bulb diameter Bulb length Irradiance Base 172 120 Z 80012290 20 W 235 mm 40 mm 120 mm 50 mW cm 178 flange DN 50 KF 172 120 ZHV 80012291 20 W 235 mm 40 mm 120 mm 50 mW cm 178 flange DN 50 KF Lamp Type Part number Electrical input Lamp length Bulb diameter Bulb length Irradiance Base 172 120 Z 80012290 20 W 235 mm 40 mm 120 mm 50 mW cm 178 flange DN 50 KF 172 120 ZHV 80012291 20 W 235 mm 40 mm 120 mm 50 mW cm 178 flange DN 50 KF unter http heraeus noblelight com media webmedia local media pdf uv UVP15E Compact Excimer UV System pdf Kontakt unter hng disinfection heraeus com Germany Heraeus Noblelight GmbH Heraeusstraße 12 14 63450 Hanau Phone 49 6181 35 8492 Telefax 49 6181 35 9926 hng disinfection heraeus com
Kategorie: Produkte UV Lampen

Auswirkung Plasma auf Polypropylen

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 11:51:nn G5T

im Internet findet man eine klasse Zusammenfassung von Plasma und Anwendung Referenz Greifswald zitat Barriereentladungen plasmaphysikalische Grundlagen und Anwendungen zur Oberflächenbearbeitung Hans Erich Wagner Ernst Moritz Arndt Universität Greifswald Institut für Physik X Erfahrungsaustausch Mühlleithen März 2003 zitat unter Seite 33 http www uni leipzig de iom muehlleithen 2003 2003 wagner pdf Polypropylen CH 2 CH CH 3 n F Massines u a Plasmas and Polymers 2001 Fazit man muß über 0 5 W cm2 sein
Kategorie: Notizen UV

VUV bei Fraunhofer

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 11:29:nn G5T

http www ifam fraunhofer de 2804 fachinfo infoblaetter Produktblatt 2804 DE Oberflaechentechnik ND Plasmatechnik Excimertechnologie pdf zitat zitat
Kategorie: Produkte UV Lampen

Dielektrisch behinderte Entladung DBE

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 11:24:nn G5T

Zusammenfassung von Plasmaquellen von der Uni Karlsruhe Koaxiale Excimerlampe Mikroentladung Filament Mikroentladung bei 172 nm zitat UV Bestrahlungsstärken bis zu 0 5 W cm2 noch höhere zu Lasten der Effizienz zitat unter http www lti uni karlsruhe de rd download Plasmastrahlungsquellen 20080125 pdf
Kategorie: Notizen UV

Osram Lampen bei Schal Schalshop

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 11:04:nn G5T

bei der Firma Schal kann man Speziallampen anfragen unter http www schahlshop de index php P lst amp OLD P kat amp AID 1688818 amp LNG DE amp ANZ block amp MSI 1 amp DSID 120515110238 52276 amp MNT
Kategorie: Produkte UV Lampen

Bezugsquellen für Osram Xeradex

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 10:57:nn G5T

Anbietersuche OSRAM Anbietersuche Über die OSRAM Anbietersuche finden Sie kompetente Anbieter von OSRAM Produkten ganz in Ihrer Nähe OSRAM Anbietersuche Registrierung amp Verwaltung Sie sind Wiederverkäufer von OSRAM Produkten Registrieren Sie sich kostenlos und nutzen Sie alle Vorteile der Anbietersuche Als bereits registrierter Anbieter können Sie Ihre Daten selbst verwalten RICHARD SCHAHL GmbH amp Co KG Rotwandstr 16 D 82049 Pullach Tel 49 0 89 749860 0 Fax 49 0 89 749860 10 http www schahl de vertrieb schahl de Inlandsvertrieb export schahl de Export FELDMANN Speziallampen Vertriebs GmbH Benzstrasse 28 82178 Puchheim Tel 0 89 80 06 57 0 Fax 0 89 80 06 57 57 E Mail info feldmann speziallampen de Internet www feldmann speziallampen de Support feldmann speziallampen de Telefonische Hotline 089 800 657 0 MULTI LITE Lichttechnik Handels GmbH Holstenhofweg 60 D 22043 Hamburg Telefon 49 40 66 99 30 0 Fax 49 40 66 99 30 99 E Mail info multi lite com Internet http www multi lite com Mit freundlichen Grüßen Miroslav Farkas OSRAM a s E Mail miroslav farkas osram sk OSRAM a s Kom rnansk cesta 7 940 93 Nov Z mky ICO 00 613 797 Zap san v obchodnom registri Okresn ho s du Nitra Oddiel Sa Vlo ka c slo 15 N
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Excimer Sources in US Ushio com

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 10:04:nn G5T

im US Bereich gibt es eine Anfrage Möglichkeit bei der Firma Vertrieb ushio com Contact our Technical Products Division Toll free 866 624 1312 Email TPDInfo ushio com zitat EXCIMER SOURCES Excimer sources provide narrow band light around a single wavelength Lamps operating at wavelengths of 126 146 172 222 282 and 308 nm are available USHIO provides a wide variety of products covering basic research tools standard sources and integrated systems optimized for your specific production requirements Wide area sources Spot sources Integrated systems Feature Benefit Powerful radiation in ultraviolet and vacuum ultraviolet spectral range Allows photochemical processes that were previously not possible with lamps Single narrow band wavelengths Supports selected reactions with specificity not available from broadband sources Very efficient source of energy at the operating wavelength Low temperature operation Generates minimal infrared radiation and allows processing of temperature sensitive substrates Highly efficient source Converts power into light energy effectively reducing power requirements and heat load Instant On Off Provides precise exposure control without mechanical devices Requires no warm up or cool down time Multiple geometries Radiation can be directed inwards or outwards Spot and wide area coverage designs are feasible zitat http www ushio com development excimer htm
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Xeradex bei Muliti lite

von Mitglied 1 — Tue, 15 May 2012 09:54:nn G5T

man kann die Xeradex Produkte anfragen unter Multi Lite com 191007 OSRAM XERADEX 20W 216 40MM 120MM SB S46 85 http www multi lite com de leuchten lampen katalog lampe osram xeradex 20w oe40mm 120mm sb s4685 191007 html
Kategorie: Produkte UV Lampen